Ionenplattieren

Ionenplattieren, auch als Ion Implantation bekannt, ist ein Verfahren zur gezielten Modifikation der Oberfläche von Festkörpermaterialien in der Halbleitertechnologie. Dabei werden Ionen mit hoher Energie auf die Oberfläche des Materials geschossen, wodurch sie in die oberste Schicht eindringen. Die Tiefe dieser Eindringung kann durch die Kontrolle der Ionenenergie präzise gesteuert werden.

Dieser Prozess dient dazu, die elektrischen Eigenschaften und strukturellen Merkmale der Oberfläche zu verändern. Durch die gezielte Einführung von Fremdatomen können Dotierungsbereiche erzeugt werden, die die Leitfähigkeit des Materials beeinflussen. Dies ist besonders wichtig bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauteilen wie Transistoren und Dioden.

Das Ionenplattieren ermöglicht eine maßgeschneiderte Anpassung der Oberfläche, was in der Halbleitertechnologie von entscheidender Bedeutung ist. Es trägt dazu bei, Bauelemente mit spezifischen elektronischen Eigenschaften herzustellen und spielt somit eine Schlüsselrolle in der fortlaufenden Weiterentwicklung der Mikroelektronik.